姓 名：******
成果单位名称：******

本发明公开了一种聚马来酸酐薄膜的制备方法。即将一定量的马来酸酐和镀膜基片载玻片置于等离子体沉积炉中，抽本底真空至２．０×１０－３Ｐａ后，升温５０～２００℃，调节腔室压力０～５０Ｐａ，与５～３０ｗ的功率下，放电５～３０ｍｉｎ，即可在载玻片上镀上一层均匀的聚马来酸酐薄膜。本发明通过马来酸酐固体升华和等离子体聚合的协同进行，简化了聚马来酸酐薄膜制备过程，所制备的薄膜结构均匀、致密，薄膜的厚度和表面的酸酐基团保留率可控，即所得的聚马来酸酐薄膜结构均匀，表面酸酐基团含量可控制在５．５９×１０－８～２．１１×１０－７ｍｏｌ／ｃｍ２范围内，薄膜厚度可控制在１１０～６６１ｎｍ范围内。

王霞 李晓燕 廖圣云 窦仁美

联系人：******
电话：******